大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法
授权
摘要
本发明实施例公开了一种大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法，所述抛光液包括下述以重量百分比计的组分：磨粒5～50 wt%；碱性腐蚀剂0.1～10 wt%；分散剂0.01～1 wt%；酸性物质0.1～10 wt%；表面活性剂0.001～0.1 wt%；去离子水余量。本发明利用超声振动辅助来提高边缘抛光中颗粒动能，在传统硅边缘抛光中磨粒切削作用基础上、增加磨粒在水平或垂直方向上的冲击作用，使得抛光中的机械作用增加，提高了大尺寸硅边缘抛光效率；同时为了平衡化学与机械作用，以及避免机械作用过强产生缺陷，本发明采用离子交换树脂通过离子交换法对磨粒进行表面改性，结合抛光液配方的调控，快速获得超光滑表面。
基本信息
专利标题 ：
大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113004804A
申请号 ：
CN202110226155.7
公开（公告）日 ：
2021-06-22
申请日 ：
2021-03-01
授权号 ：
CN113004804B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
潘国顺陈高攀罗桂海罗海梅周艳潘立焱
申请人 ：
深圳清华大学研究院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道高新技术工业村
代理机构 ：
深圳市壹壹壹知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
师勇
优先权 ：
CN202110226155.7
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 B24B1/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-07-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20210301
申请日 : 20210301
2021-06-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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