一种快速抛光的化学抛光液及其制备方法
公开
摘要
本申请涉及化学机械技术领域，具体公开了一种快速抛光的化学抛光液及其制备方法，按重量％计，主要由下列原料组成：磨料15‑45％、氧化剂0.3‑1.2％、pH调节剂1‑3％、螯合剂0.3‑1.8％、表面活性剂0.4‑1.6％、去离子水为余量；其中磨料为SiO2水溶胶、KCl和甲基丙烯酸羟乙酯按照质量比为8‑12:2‑5:1混合得到的混合物；本申请的磨料、氧化剂、pH调节剂、螯合剂、表面活性剂相互配合，共同影响锗片抛光后的表面质量，制备具有高性能的抛光液，能够去除锗片表面的抛光损伤，实现锗片表面的平整。
基本信息
专利标题 ：
一种快速抛光的化学抛光液及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114605922A
申请号 ：
CN202210268621.2
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王元立陈美琳贺友华
申请人 ：
北京通美晶体技术股份有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区工业开发区东二街4号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210268621.2
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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