一种化学机械抛光液
授权
摘要
本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、硝酸铁、有机酸，所述二氧化硅研磨颗粒表面带正电荷。本发明的化学机械抛光液，与含有有机膦酸的抛光液相比，胶体稳定性高。另外，本发明的抛光液中添加了氮化硅抛光速率抑制剂，在具有较高的钨抛光速率的前提下，适当抑制了氮化硅的抛光速率，满足了半导体生产中对抛光的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111378375A
申请号 ：
CN201811629420.0
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2018-12-28
授权号 ：
CN111378375B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
何华锋王晨李星孙金涛史经深
申请人 ：
安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层
代理机构 ：
北京大成律师事务所
代理人 ：
李佳铭
优先权 ：
CN201811629420.0
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2022-01-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20181228
申请日 : 20181228
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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