一种化学机械抛光液
授权
摘要
本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，唑类化合物，pH调节剂和水，其中，所述二氧化硅研磨颗粒表面接枝了一种分子末端带有磺酸基的有机物。本发明的抛光液大幅提高了抛光液胶体的稳定性，减少了抛光过程中晶圆表面研磨颗粒的残留，提高了抛光液的循环利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111378368A
申请号 ：
CN201811627080.8
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2018-12-28
授权号 ：
CN111378368B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
王晨何华锋李星
申请人 ：
安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层
代理机构 ：
北京大成律师事务所
代理人 ：
李佳铭
优先权 ：
CN201811627080.8
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2022-01-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20181228
申请日 : 20181228
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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