一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液
授权
摘要
一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
基本信息
专利标题 ：
一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113480942A
申请号 ：
CN202110898990.5
公开（公告）日 ：
2021-10-08
申请日 ：
2021-08-06
授权号 ：
CN113480942B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
郭江张鹏飞潘博司立坤
申请人 ：
大连理工大学;大连理工大学宁波研究院
申请人地址 ：
辽宁省大连市甘井子区凌工路２号
代理机构 ：
辽宁鸿文知识产权代理有限公司
代理人 ：
苗青
优先权 ：
CN202110898990.5
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-10-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20210806
申请日 : 20210806
2021-10-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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