一种化学机械抛光液及其应用
授权
摘要
本发明公开了一种化学机械抛光液，所述抛光液包含研磨颗粒、金属缓蚀剂、络合剂、氧化剂，阴离子型氟碳表面活性剂和水。本发明的抛光液具有高的阻挡层和二氧化硅(TEOS)的去除速率，并能很好的控制超低介电常数材料(ULK)的去除速率，同时对半导体器件表面的形貌有很强的矫正能力，快速实现平坦化，提高工作效率，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光液及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111378382A
申请号 ：
CN201811639167.7
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2018-12-29
授权号 ：
CN111378382B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
宋凯姚颖荆建芬蔡鑫元汪国豪李恒
申请人 ：
安集微电子（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域
代理机构 ：
北京大成律师事务所
代理人 ：
李佳铭
优先权 ：
CN201811639167.7
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2022-01-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20181229
申请日 : 20181229
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
