用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备，其中，抛光液防溅装置包括：环形挡圈，其环绕设置于抛光盘的外周侧，其配置有升降机构，可独立沿竖直方向移动以遮挡溅射的抛光液；导流槽组件，位于所述环形挡圈和所述抛光盘的下方，与所述环形挡圈形成迷宫密封，以遮挡所述环形挡圈底部与所述抛光盘之间的间隙，从而用于收集液体。
基本信息
专利标题 ：
用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114367920A
申请号 ：
CN202111634298.8
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梁清波王同庆
申请人 ：
华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111634298.8
主分类号 ：
B24B37/34
IPC分类号 ：
B24B37/34 B24B57/02 B24B37/10 B24B53/017
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/34
附件
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/34
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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