一种化学机械抛光液及其应用
授权
摘要
本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、硅抛光速率促进剂、pH调节剂、循环使用处理剂和水。本发明的抛光液通过在抛光液中添加循环使用处理剂，降低在循环使用过程中的副产物产生速率，延长了抛光垫颜色保持不变的时间，提高了抛光过程的稳定性，从而使抛光垫的循环使用寿命提高，添加处理剂还可以解决抛光液在反复使用过程中硅的去除速率明显下降的问题，延长抛光液的使用时间，从而大大降低了生产成本，并且提高了硅抛光产品的良率。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光液及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111378369A
申请号 ：
CN201811627084.6
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2018-12-28
授权号 ：
CN111378369B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
何华锋王晨李星孙金涛史经深
申请人 ：
安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层
代理机构 ：
北京大成律师事务所
代理人 ：
李佳铭
优先权 ：
CN201811627084.6
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2022-01-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20181228
申请日 : 20181228
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
