一种化学机械抛光液及其使用方法
公开
摘要
本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液含有，氧化铈研磨颗粒，羟胺及其衍生物，以及pH调节剂,其中所述氧化铈研磨颗粒表面带有正电荷。使用本发明中的化学机械抛光液，随着晶圆上图案台阶高度的降低，抛光液的抛光速率也随之降低，从而实现自动停止的功能，并且使用条件较为温和，能够实现规模化生产使用，能够适用于具有不同图形的图片晶圆，在本领域具有广泛的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光液及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114621684A
申请号 ：
CN202011452923.2
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-12-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李守田贾长征
申请人 ：
安集微电子（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域
代理机构 ：
北京大成律师事务所
代理人 ：
李佳铭
优先权 ：
CN202011452923.2
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 B24B57/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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