一种全自动高效单晶硅双面抛光机
授权
摘要

本实用新型公开了一种全自动高效单晶硅双面抛光机,涉及单晶硅加工领域,包括底座,所述底座顶部的正中设置有承台,承台底部的四角分别固定连接有弹力伸缩导杆,底座顶部的两侧对称固定连接有支撑台,两个支撑台相对一侧的中部对称设置有爪形夹持夹具,爪形夹持夹具远离支撑台一侧的正中活动连接有延长轴,延长轴远离爪形夹持夹具的一端固定连接有打磨头,爪形夹持夹具另一侧的正中固定连接有转动轴。本实用新型所述的一种全自动高效单晶硅双面抛光机,使压板靠近承台对单晶硅进行夹持,通过在承台的底部设置缓冲区域,在夹持过程中缓慢增加对异形单晶硅支撑点的压力,方便对单晶硅进行固定,进而为加工提供便利。

基本信息
专利标题 :
一种全自动高效单晶硅双面抛光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021749222.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213106223U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
陈峰
申请人 :
浙江众晶电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
代理机构 :
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
钱磊
优先权 :
CN202021749222.0
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B7/22  B24B41/06  B24B41/00  B24B45/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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