精密双面抛光机
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种精密双面抛光机,包括机架、主轴传动机构、上抛光盘传动机构,主轴传动机构连接下抛光盘、内齿圈、外齿圈以及与上抛光盘配合的连接件,内齿圈与外齿圈之间啮合用于放置工件的行星轮,上抛光盘传动机构位于主轴传动机构的上方,上抛光盘传动机构包括安装在机架上的驱动装置,驱动装置带有活塞杆,活塞杆与上抛光盘连接,采用四个变频电机拖动上下抛盘、内齿圈、外齿圈的四动抛光原理来进行传动系统的设计,且采用轴套结构使四轴同心;驱动装置连接用于调节加载压力大小的压力调节阀,在活塞杆与上抛光盘的连接处安装压力传感器,能够精确控制上抛光盘的压力。本实用新型结构紧凑、可实现无级调速、加工过程平稳性佳、可有效提升抛光效率。

基本信息
专利标题 :
精密双面抛光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720108956.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-05-09
授权号 :
CN201040355Y
授权日 :
2008-03-26
发明人 :
李伟胡晓冬阮健
申请人 :
浙江工业大学
申请人地址 :
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学
代理机构 :
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 :
王兵
优先权 :
CN200720108956.9
主分类号 :
B24B29/00
IPC分类号 :
B24B29/00  B24B47/12  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2009-01-21 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20070509
2008-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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