精密双面抛光机的气动加载装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种精密双面抛光机的气动加载装置,包括机架、安装在机架上的气缸,气缸带有活塞杆,活塞杆与上抛光盘连接,气缸连接用于调节加载压力大小的压力调节阀,压力调节阀连接气动气源,在活塞杆与上抛光盘的连接处安装压力传感器;气动加载装置还包括用于根据工件的加工条件制定的加载压力控制曲线控制载荷大小,以及用于各个抛光阶段,接收压力传感器的信号,并将压力传感器的压力值与预设各个抛光阶段的工作压力比较,选择性地向压力调节阀发出增大或减小压力指令的上抛光盘压力控制模块;上抛光盘压力控制模块连接压力调节阀、压力传感器。本实用新型能够精确控制上抛光盘对工件的压力,有效提升抛光精度。

基本信息
专利标题 :
精密双面抛光机的气动加载装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720108958.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-05-09
授权号 :
CN201040356Y
授权日 :
2008-03-26
发明人 :
李伟阮健胡晓冬
申请人 :
浙江工业大学
申请人地址 :
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学
代理机构 :
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 :
王兵
优先权 :
CN200720108958.8
主分类号 :
B24B29/00
IPC分类号 :
B24B29/00  B24B49/00  B24B47/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2009-01-21 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20070509
2008-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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