精密双面抛光机的主轴传动机构
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
一种精密双面抛光机的主轴传动机构，包括机架、四个变频电机、驱动上抛光盘转动的长轴、驱动内齿圈转动的小轴、驱动下抛光盘转动的中轴以及驱动外齿圈转动的大轴，第一变频电机带动长轴转动，第二变频电机带动小轴转动，第三变频电机带动中轴转动，第四变频电机带动大轴转动；采用四个变频电机分别拖动上下抛盘、内齿圈、外齿圈的四动抛光原理来进行传动系统的设计，且采用轴套结构使四轴同心。本实用新型提供一种结构紧凑、可实现无级调速、加工过程平稳性佳、可有效提升抛光效率的精密双面抛光机的主轴传动机构。
基本信息
专利标题 ：
精密双面抛光机的主轴传动机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720108957.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-05-09
授权号 ：
CN201086224Y
授权日 ：
2008-07-16
发明人 ：
李伟胡小珍胡晓冬金杨福
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
王兵
优先权 ：
CN200720108957.3
主分类号 ：
B24B29/00
IPC分类号 ：
B24B29/00 B24B47/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2009-04-01 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20070509
2008-07-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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