一种高精度单晶硅双面加工抛光机
授权
摘要

本实用新型公开了一种高精度单晶硅双面加工抛光机,包括机体,所述机体前端上方壁体内设有防护门,所述机体一侧上方壁体中设有控制杆,所述控制杆内设有防误触机构,所述防误触机构包括套环与固定环,所述机体顶部一侧设有抛光箱,所述机体顶部后端一侧设有升降杆,所述机体顶部后端另一侧设有控制箱,所述控制杆后端上方壁体与前端下方壁体中分别开设有移动槽。本实用新型所述的一种高精度单晶硅双面加工抛光机,涉及抛光机设备技术领域,通过防误触机构的设置,能够通过套环与按压块的设置,能够对其控制杆进行双重的防误触设置,能够有效的防止人员因误触而导致设备意外启动或者人员受伤等情况的出现。

基本信息
专利标题 :
一种高精度单晶硅双面加工抛光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021749264.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN213289858U
授权日 :
2021-05-28
发明人 :
陈峰
申请人 :
浙江众晶电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
代理机构 :
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
钱磊
优先权 :
CN202021749264.4
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B27/00  B24B55/00  B24B41/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-05-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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