双面抛光设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种双面抛光设备，涉及打磨抛光设备技术领域，其包括位移机构和两个抛光机构；位移机构包括Z轴位移组件，支架组件固定在Z轴位移组件的运动部件上，两个抛光机构在Z轴位移组件上相互对置，Z轴位移组件连动两个抛光机构沿Z轴方向合拢或分离。本实用新型主要解决抛光设备在同一时间段仅能对一个表面进行抛光的问题；该种双面抛光设备能够同时对工件的上下两个表面进行抛光，提高工作效率，进而提高产量。
基本信息
专利标题 ：
双面抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021903884.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN213970540U
授权日 ：
2021-08-17
发明人 ：
张瑞军
申请人 ：
东莞市钜铧机械有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市高埗镇保安围一队墩头洲
代理机构 ：
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 ：
陈培琼
优先权 ：
CN202021903884.9
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B27/00 B24B47/22
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-08-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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