一种新型灭弧罩保护装置
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摘要
为了解决在PVD真空镀膜的过程中靶材在灭弧罩上积累从而影响灭弧罩的使用性能的问题，本实用新型提出一种新型灭弧罩保护装置，其包括：灭弧罩主体1，灭弧罩主体1为圆环形结构，圆环形结构的包括内部侧面、外部侧面、上表面和下表面，其特征在于：所述的新型灭弧罩保护装置还包括衬套2，衬套2包括遮挡面21和侧面22，侧面22与遮挡面21垂直连接，遮挡面21上设有第一螺丝锁紧孔211和第二螺丝锁紧孔212，灭弧罩主体1的下表面上设有第三螺丝锁紧孔和第四螺丝锁紧孔，在第一螺丝锁紧孔211和第三螺丝锁紧孔中打入第一螺丝，在第二螺丝锁紧孔212和第四螺丝锁紧孔中打入第二螺丝，衬套2的侧面22位于灭弧罩主体1的内部侧面的内部。
基本信息
专利标题 ：
一种新型灭弧罩保护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922254087.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN211112193U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
吴伟亮冯刚邓永琪汪毅梁海洋邓永宏
申请人 ：
苏州星蓝纳米技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区亭南路70号
代理机构 ：
江苏昆成律师事务所
代理人 ：
刘尚轲
优先权 ：
CN201922254087.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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