一种真空灭弧室静端保护装置及真空灭弧室
授权
摘要
本实用新型涉及真空灭弧室技术领域，具体公开了一种真空灭弧室静端保护装置及真空灭弧室，该真空灭弧室静端保护装置包括静端结构件及设置于静端结构件上的电接触面，电接触面设置有安装孔，真空灭弧室静端保护装置包括保护盖及与保护盖固接的安装柱，安装柱与安装孔插接，保护盖沿平行于安装孔轴线的方向遮盖电接触面，保护盖与电接触面间隔设置。该真空灭弧室静端保护装置解决了真空灭弧室结构件的电接触面在生产运输过程中容易出现划伤、磕碰的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空灭弧室静端保护装置及真空灭弧室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022417425.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
CN213340205U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
李拉练李伟青孙智生
申请人 ：
陕西宝光真空电器股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022417425.6
主分类号 ：
H01H33/664
IPC分类号 ：
H01H33/664
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关；继电器；选择器；紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点；灭弧装置，例如灭弧环
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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