一种真空灭弧室触头、真空灭弧室及真空断路器

授权

摘要

本实用新型涉及一种真空灭弧室触头、真空灭弧室及真空断路器，属于真空开关技术领域。包括触头片、第一触头杯和第二触头杯，第一触头杯设置于第二触头杯内，第一触头杯至少有一个，第一触头杯的一端与第二触头杯连接，第一触头杯的另一端与触头片连接，触头片与第二触头杯连接。本技术方案将单一的纵向磁场分裂成多个独立的纵向磁场区域，多个线圈对电流分流，电流密度降低，真空灭弧室在通载大额定电流时温度升高较少，触头的发热将明显降低，解决了大短路电流开断和大额定电流温升的矛盾。且触头加工工艺简单，容易实现，降低生产成本。

基本信息

专利标题：

一种真空灭弧室触头、真空灭弧室及真空断路器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020130250.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-20

授权号：

CN211319999U

授权日：

2020-08-21

发明人：

刘卫荣常新

申请人：

北京京东方真空电器有限责任公司

申请人地址：

北京市密云区经济开发区汇通街15号

代理机构：

北京维正专利代理有限公司

代理人：

侯巍巍

优先权：

CN202020130250.8

主分类号：

H01H33/02

IPC分类号：

H01H33/02 H01H33/04 H01H33/18 H01H33/664