一种真空灭弧室触头结构
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摘要

本实用新型公开了一种真空灭弧室触头结构,包括触头杯、触头片、支撑件、连接件、螺杆和动导电杆,触头片设置于触头杯的下平面;触头杯的底部设置有内凹槽,连接件的顶端设置于触头杯的内凹槽内,连接件的顶端与触头杯的内凹槽下平面贴合;螺杆的顶端依次穿过连接件、触头杯和动导电杆;触头片上设置有环形槽,支撑件的底端设置于触头片上的环形槽内;支撑件的上部滑动套设于连接件的下部;支撑件的上部与触头杯的内凹槽之间有间隙。本实用新型在真空灭弧室触头杯内部增加支撑件和连接件,降低真空灭弧室的合闸弹跳,避免分闸过程中触头熔焊力导致触头受力变形;采用螺栓方式将连接件、触头杯和动导电杆连接在一起,零件加工简单,且可靠性高。

基本信息
专利标题 :
一种真空灭弧室触头结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121958387.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-19
授权号 :
CN216250541U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
王科彭晶
申请人 :
云南电网有限责任公司电力科学研究院
申请人地址 :
云南省昆明市经济技术开发区云大西路105号
代理机构 :
北京弘权知识产权代理有限公司
代理人 :
逯长明
优先权 :
CN202121958387.3
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664  H01H33/66  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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