一种真空灭弧室用的新型触头

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种真空灭弧室用的新型触头，它包括凸触头(1)和凹触头(2)，凸触头(1)和凹触头(2)均为圆柱体，凸触头(1)的一个端面为凸出形，凹触头(2)的一个端面为凹陷形，凸触头(1)和凹触头(2)成对使用，两个触头接触时，凸触头(1)的凸出伸入到凹触头(2)的凹陷中，并紧密接触。本实用新型在不增大真空灭弧室直径的情况下增大触头的接触面积，降低接触电阻，从而增大开断能力。有效的解决由两个相同的圆柱形平板触头对接所存在的体积大，接触面积小，同轴度差的问题。

基本信息

专利标题：

一种真空灭弧室用的新型触头

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620200912.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-11-16

授权号：

CN200993927Y

授权日：

2007-12-19

发明人：

顾斌

申请人：

中国振华（集团）科技股份有限公司宇光分公司

申请人地址：

550018贵州省贵阳市289信箱总办

代理机构：

贵阳中新专利商标事务所

代理人：

李大刚

优先权：

CN200620200912.4

主分类号：

H01H33/664

IPC分类号：

H01H33/664 H01H1/06