真空灭弧室
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空灭弧室,包括静导电杆和定位块;静导电杆为圆形直杆结构,圆形直杆结构的中间段的周面设有至少一个铣扁处;定位块为非金属材料制作而成的多边形块体,该定位块设有与圆形直杆结构的中间段的铣扁处相适配的通孔,以使得定位块的通孔与圆形直杆结构的铣扁处相配合时,限制定位块与圆形直杆结构之间相互转动;圆形直杆结构的中间段设有由铣扁后形成的第一台阶,定位块的上端面抵在第一台阶处,一轴用弹性挡圈卡在圆形直杆结构的中间段并抵于所述定位块的下端面,从而限制定位块相对于所述圆形直杆结构上下移动。本实用新型既可以降低材料成本、加工成本和时间成本;又可以提高装配的便利性,提高产品的装配效率。

基本信息
专利标题 :
真空灭弧室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921049615.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-05
授权号 :
CN210091975U
授权日 :
2020-02-18
发明人 :
何跃朱朝南周瑶陈晓燕
申请人 :
厦门宏发电力电器有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市海沧区一农路93号
代理机构 :
厦门市首创君合专利事务所有限公司
代理人 :
连耀忠
优先权 :
CN201921049615.8
主分类号 :
H01H33/66
IPC分类号 :
H01H33/66  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
法律状态
2020-02-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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