真空灭弧室及真空开关
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种真空灭弧室及真空开关,其中,真空灭弧室,包括由静端盖板、外壳、动端盖板内壁及第一波纹管外壁围合形成的真空气室,过渡密封罩一侧与第一波纹管内壁围合形成的过渡气室,过渡密封罩的另一侧为绝缘气室。在真空气室和绝缘气室之间设置过渡气室,即第一波纹管一侧为真空气室,另一侧为过渡气室,在使用时只需保证过渡气室的压力在第一波纹管承受压力范围内即可,而绝缘气室内的气压可以大于过渡气室的气压,即采用过渡气室作为真空气室和绝缘气室之间的过渡腔室结构,提高了绝缘气室的气压,提高了绝缘气室的绝缘能力,有利于减小绝缘气室的体积,提高绝缘气室的电压等级。

基本信息
专利标题 :
真空灭弧室及真空开关
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334529A
申请号 :
CN202011072141.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-10-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张春基南振乐王传川毕冬丽尹航权磊雷鹏
申请人 :
西安西电高压开关有限责任公司;中国西电电气股份有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市经济技术开发区凤城12路95号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
王欢
优先权 :
CN202011072141.6
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01H 33/664
申请日 : 20201009
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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