一种真空灭弧室
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空灭弧室,其技术方案要点包括陶瓷外壳、盖板,所述陶瓷外壳朝向盖板的端面外侧固定连接有预制金属环、内侧设置有密封槽,所述密封槽处设置有密封圈,所述盖板朝向陶瓷外壳的一侧设置有位于预制金属环内侧的连接环,所述连接环端面中部连接有卡环、内侧连接有端环,所述密封圈设置有供卡环卡入的卡槽,所述端环与密封圈内侧紧贴。预制金属环先固定在陶瓷外壳上,再安装密封圈至卡入密封槽内,接着装上盖板,将预制金属环和盖板焊接在一起便完成陶瓷外壳和盖板的封接。一方面外焊内密封圈的双重气密结构,使得封接处的气密性大大提高,真空度得到保证,使用寿命长。
基本信息
专利标题 :
一种真空灭弧室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920532678.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-18
授权号 :
CN209561279U
授权日 :
2019-10-29
发明人 :
张天培
申请人 :
华光电子股份有限公司
申请人地址 :
浙江省温州市乐清经济开发区纬十七路208号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920532678.2
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2019-10-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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