一种真空灭弧室真空度比对检测方法及系统
实质审查的生效
摘要

本公开涉及一种真空灭弧室真空度比对检测方法及系统,所述方法包括:在所述真空灭弧室静置第一时长T1后,测量第一次真空度,得到第一真空度P1;在所述真空灭弧室静置第二时长T2后,测量第二次真空度,得到第二真空度P2;判断所述第一真空度P1和所述第二真空度P2是否满足预设条件;若满足,则根据预设分析算法,判断所述第二真空度P2是否满足预定贮存期所需满足的当前真空度数值,从而判定所述真空灭弧室是否合格。上述方案用于解决现有技术中,真空度测试对20年贮存期的合格预判准确率不高的技术问题,采用真空度比对方法来测算真空灭弧室内部气体压力变化趋势,能够提前筛选出当前真空度合格但真空度变化趋势异常的产品。

基本信息
专利标题 :
一种真空灭弧室真空度比对检测方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114464497A
申请号 :
CN202210088328.8
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-01-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王强冉隆科肖红
申请人 :
成都凯赛尔科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市新都区新都街道黄鹤路99号3栋1层
代理机构 :
成都领航高智知识产权代理有限公司
代理人 :
刘鹏宇
优先权 :
CN202210088328.8
主分类号 :
H01H33/668
IPC分类号 :
H01H33/668  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/668
用于获得或者监视真空的装置
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01H 33/668
申请日 : 20220125
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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