一种快速提高真空室真空度的方法

专利权的终止

摘要

本发明公开了一种快速提高真空室真空度的方法，在真空室内，使活性高且稳定性好的金属蒸发形成蒸气粒子，并将该蒸气粒子沉积于金属板表面形成金属膜，金属粒子及其形成的新鲜金属膜可以快速吸附真空室内的气体分子，并进一步生成稳定的固态物质。本发明一种快速提高真空室真空度的方法，在真空室内，采用蒸发方式，使少量活性高且稳定性好的金属材料蒸发为蒸气粒子，蒸气粒子迅速与真空室内的水蒸气、氧气、氢气等气体发生反应，生成稳定的固态物质，从而达到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室的真空度，不仅费用低廉而且迅速高效。

基本信息

专利标题：

一种快速提高真空室真空度的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1811011A

申请号：

CN200610000989.1

公开（公告）日：

2006-08-02

申请日：

2006-01-13

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

舒勇华樊菁李帅辉

申请人：

中国科学院力学研究所

申请人地址：

100080北京市海淀区北四环西路15号

代理机构：

北京中创阳光知识产权代理有限责任公司

代理人：

尹振启

优先权：

CN200610000989.1

主分类号：

C23C14/56

IPC分类号：

C23C14/56