一种真空灭弧室
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种真空灭弧室，包括气密绝缘系统、导电系统、屏蔽系统，气密绝缘系统包括瓷壳、动端盖板、静端盖板，导电系统包括动导电杆和静导电杆，动端盖板、静端盖板与瓷壳之间设置固定环，本实用新型具有以下优点和效果：本方案利用新机械结构，通过在气密绝缘系统中增加两个固定环，降低气密绝缘系统中动端盖板、静端盖板、动导电杆、静导电杆与瓷壳的同轴度，降低真空灭弧室内电流损耗。
基本信息
专利标题 ：
一种真空灭弧室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921200948.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210040048U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
刘众意胡志柱
申请人 ：
颐光真空电器有限公司
申请人地址 ：
浙江省温州市乐清市柳市镇新光工业区新光大道111号
代理机构 ：
温州名创知识产权代理有限公司
代理人 ：
程嘉炜
优先权 ：
CN201921200948.6
主分类号 ：
H01H33/664
IPC分类号 ：
H01H33/664
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关；继电器；选择器；紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点；灭弧装置，例如灭弧环
法律状态
2021-07-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01H 33/664
申请日 : 20190726
授权公告日 : 20200207
终止日期 : 20200726
申请日 : 20190726
授权公告日 : 20200207
终止日期 : 20200726
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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