缓冲抛光垫
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摘要

本实用新型公开了一种缓冲抛光垫,包括抛光层和背胶层,还包括中间胶层和缓冲层,所述中间胶层和缓冲层均位于抛光层和背胶层之间,所述缓冲层设在中间胶层和背胶层之间,中间胶层设在缓冲层和抛光层之间。该缓冲抛光垫结构设计合理,结合现有硬质和软质抛光垫的优点,在保证抛光去除率的同时提升了抛光过程中的均匀性;通过缓冲的弹性弥补抛光垫形貌变化对抛光效果的影响,提升不同设备抛光效果的一致性;通过缓冲层的弹性弥补抛光垫形貌变化对抛光效果的影响,因此不需要使用金刚石修整,抛光垫使用寿命大大提升;减少了人力维护,提升生产效率。

基本信息
专利标题 :
缓冲抛光垫
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922297952.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-19
授权号 :
CN211249558U
授权日 :
2020-08-14
发明人 :
江梦华郑建军岳伟陶方查马建彪苗聪
申请人 :
芜湖长信科技股份有限公司
申请人地址 :
安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路六号
代理机构 :
芜湖安汇知识产权代理有限公司
代理人 :
张永生
优先权 :
CN201922297952.5
主分类号 :
B24B29/00
IPC分类号 :
B24B29/00  B24B41/04  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2020-08-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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