真空防泄漏装置、真空吸附设备

授权

摘要

本实用新型提供一种真空防泄漏装置、真空吸附设备，属于真空吸附技术领域。真空防泄漏装置包括：主体壳，包括第一入口和第二入口、第一出口和第二出口；设置于主体壳内的第一隔离件、第二隔离件和第三隔离件；第一隔离件、第二隔离件与部分主体壳限定出第一腔室；第二隔离件与部分主体壳、第三隔离件限定出第二腔室；第一隔离件与部分主体、第三隔离件限定出第三腔室；第一腔室通过第一入口与抽真空管路连通；第二腔室通过第二入口与抽真空管路连通；第三腔室通过第一出口与空吸附件的真空抽气口连通；第一隔离件能够在主体壳内转动，第二隔离件与第一隔离件固定连接，并能够在第一隔离件的带动下转动。

基本信息

专利标题：

真空防泄漏装置、真空吸附设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922298012.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-19

授权号：

CN211452813U

授权日：

2020-09-08

发明人：

孙盛军钱志禹李艳平刘鑫魏冰黄文辉

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司

代理人：

柴亮

优先权：

CN201922298012.8

主分类号：

G01M13/00

IPC分类号：

G01M13/00 G01L21/00