一种深度测量装置
授权
摘要
一种深度测量装置，包括：发射模组，其包含由多个子光源组成的光源阵列，以具有多个斑点的投影图案提供输出光来照射目标物体；采集模组，其检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反射光；控制与处理电路，被配置为根据所述输出光和所述反射光的相位差获取所述目标物体的距离；其中，所述光源阵列包含多个分立的子光源阵列，各子光源阵列被配置为可控制独立开启或者同步开启以使得所述发射模组提供不同视场角和/或不同斑点密度的投影图案。本实用新型可以灵活适应各种深度测量应用下对目标物体的测量需求，并降低测量装置的功耗。
基本信息
专利标题 ：
一种深度测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922306982.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-18
授权号 ：
CN211826516U
授权日 ：
2020-10-30
发明人 ：
曾海王兆民
申请人 ：
深圳奥比中光科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区学府路63号高新区联合总部大厦12楼
代理机构 ：
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 ：
王震宇
优先权 ：
CN201922306982.8
主分类号 ：
G01S17/08
IPC分类号 ：
G01S17/08 G01S17/36 G01S7/4911 G01S7/4912
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01S
无线电定向；无线电导航；采用无线电波测距或测速；采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测；采用其他波的类似装置
G01S17/00
应用除无线电波外的电磁波的反射或再辐射系统，例如，激光雷达系统
G01S17/02
应用除无线电波外的电磁波反射的系统
G01S17/06
测定目标位置数据的系统
G01S17/08
只用于测量距离
法律状态
2020-10-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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