蒸发源喷嘴
授权
摘要
本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发源喷嘴。该蒸发源喷嘴包括喷嘴本体，所述喷嘴本体包括用于使蒸发材料流通的通道；内套，所述内套和所述通道的内壁之间设置有转动组件，至少部分所述内套通过所述转动组件可转动地设置于所述通道内。本申请提供的蒸发源喷嘴的至少部分内套通过转动组件可转动地设置于通道内，如此有利于附着在内套上的冷凝材料蒸发或回落至坩埚，从而降低了蒸发材料冷凝后会堵塞喷嘴的可能性，提高了蒸镀的质量。
基本信息
专利标题 ：
蒸发源喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922310392.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-20
授权号 ：
CN211522301U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
轩景泉钱海涛林文晶马晓宇
申请人 ：
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯伟
优先权 ：
CN201922310392.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
