靶装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种靶装置，包括：壳体(1)；具有多孔结构的靶体(2)，所述靶体(2)设于所述壳体(1)内，并用于接受束流照射；以及换热工质(3)，设置为从所述靶体(2)的孔隙流过，以对所述靶体(2)进行换热；其中，所述靶体(2)的孔隙率沿所述束流的入射方向(A)逐渐减小。通过将靶体设置为其孔隙率沿束流的入射方向逐渐减小，使得靶体的散热能力沿束流的入射方向逐渐减小，从而能够对束流初入区域的较高功率密度的热量进行更大幅度的扩散，而对束流后入区域的较低功率密度的热量进行更小幅度的扩散，保证热量及时、均匀地散失，有利于提高靶装置的性能。并且，束流后入区域的靶体的孔隙率小，可以防止产物粒子流的通量或者产物同位素的浓度大幅降低，有利于保证靶装置的实用价值。
基本信息
专利标题 ：
靶装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922343442.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-24
授权号 ：
CN211744835U
授权日 ：
2020-10-23
发明人 ：
詹文龙杨磊张学智高笑菲祁美玲杨琼陈小龙
申请人 ：
中国科学院近代物理研究所
申请人地址 ：
甘肃省兰州市城关区南昌路509号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN201922343442.7
主分类号 ：
H05H6/00
IPC分类号 ：
H05H6/00
法律状态
2020-10-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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