标准校正板及校正系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种标准校正板及校正系统，涉及振镜校正技术领域。该标准校正板用于振镜扫描系统中振镜的校正，振镜扫描系统包括振镜扫描聚焦模块、分光镜和激光发出装置，振镜扫描系统能在标刻平面上进行标刻，标准校正板上设置有校正平面，校正平面用于与标刻平面重合，校正平面上设置有多个阵列排布的特征点，多个特征点用于振镜的校正。本实用新型还提供了一种校正系统，其采用了上述的标准校正板。本实用新型提供的标准校正板及校正系统能用于振镜的校正，并且不需要人工量测及不需要借用专用振镜校正的设备或者仪器，完成振镜的校正工作。
基本信息
专利标题 ：
标准校正板及校正系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922343568.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN210923027U
授权日 ：
2020-07-03
发明人 ：
王雪辉雷桂明许维路清彦
申请人 ：
武汉华工激光工程有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学科技园激光产业园
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
冯洁
优先权 ：
CN201922343568.4
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2020-07-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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