一种镀铝8μm尼龙膜的生产设备
授权
摘要
本实用新型揭示了一种镀铝8μm尼龙膜的生产设备，一方面生产设备由沿尼龙膜传送方向排列设置的放卷单元、等离子净化单元、镀铝膜单元和母收卷单元构成，且相邻各单元之间通过导向辊衔接成一体化设备；另一方面沿尼龙膜传送依次放卷、展平基材薄膜，并等离子净化基材薄膜的镀铝面，再通过镀膜鼓和蒸发套件朝基材薄膜蒸镀铝膜，冷却成型后的镀铝8μm尼龙膜进行增加阻尼的平缓式收卷。应用本实用新型改进的设备，有效解决了膜面的平整度，镀铝加工后增强了铝层的附着力且光泽度良好，膜面无漏镀条纹。
基本信息
专利标题 ：
一种镀铝8μm尼龙膜的生产设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922348283.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-24
授权号 ：
CN211848128U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
张发锐李恩诚
申请人 ：
苏州昆岭薄膜工业有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区星龙街368号
代理机构 ：
南京苏科专利代理有限责任公司
代理人 ：
姚姣阳
优先权 ：
CN201922348283.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24 C23C14/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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