一种提升P型双面电池双面率的背膜结构
授权
摘要

本实用新型公开一种提升P型双面电池双面率的背膜结构,包括电池片,电池片的背面依次沉积有氧化铝膜、氮化硅膜、氮氧化硅膜、氧化硅膜,氮化硅膜包括上层氮化硅膜、中层氮化硅膜、下层氮化硅膜,上、中、下三层氮化硅膜的厚度逐渐升高,折射率逐渐降低,氮化硅膜的总膜厚为35至55纳米,氮化硅膜的总折射率为2.12至2.20,通过本实用新型改进背面膜层结构以及优化镀膜工艺,有效的降低电池片背面的反射率,增加光的吸收,提升P型双面SE PERC电池的背面转换效率,P型双面SE PERC电池的双面率由72.9%提至74.14%,显著提高了产品的质量。

基本信息
专利标题 :
一种提升P型双面电池双面率的背膜结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922368456.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-25
授权号 :
CN211208454U
授权日 :
2020-08-07
发明人 :
胡茂界丁晨陈刚
申请人 :
浙江爱旭太阳能科技有限公司
申请人地址 :
浙江省金华市义乌市苏溪镇好派路655号
代理机构 :
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 :
金丽英
优先权 :
CN201922368456.4
主分类号 :
H01L31/0216
IPC分类号 :
H01L31/0216  H01L31/048  H01L31/068  H01L31/18  
法律状态
2020-08-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332