一种板式PECVD机台的双面镀膜结构
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摘要
本实用新型公开了一种板式PECVD机台的双面镀膜结构，包括外框，所述外框的内部上下两端均安装有石英管，所述外框的内部安装有镀膜机构，所述外框外壁上下两端均安装有下夹板，所述下夹板的外侧转动连接有上夹板，所述下夹板和上夹板的内部插接有磁铁，所述外框的左侧安装有调节构件，所述调节构件的左侧安装有转盘。该板式PECVD机台的双面镀膜结构，通过第一外壳、第二外壳、插板和槽板的配合，可以为镀膜工作提供空间，通过支杆、扣板、石墨框和硅片的配合，达到了可以进行镀膜工作，通过支架、定块、螺杆、转盘、螺纹管和撑杆的配合，达到了可以对外框内部的空间进行调节工作，可以使等离子的数量进行控制，达到了可以对镀膜的效果进行调节工作。
基本信息
专利标题 ：
一种板式PECVD机台的双面镀膜结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921972557.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-15
授权号 ：
CN211079328U
授权日 ：
2020-07-24
发明人 ：
陈金元
申请人 ：
理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
代理机构 ：
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘静宇
优先权 ：
CN201921972557.6
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-07-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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