一种双面镀膜设备
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摘要

本实用新型公开了一种双面镀膜设备,包括第一载板支撑架以及与第一载板支撑架配套的第二载板支撑架、设于第一载板支撑架上的一个或多个第一载板以及设于第二载板支撑架上的一个或多个第二载板;第一载板、第二载板上分别设有用于放置电池片的第一电池片载片、第二电池片载片;通过将第一载板支撑架与第二载板支撑架合并,使得多个第一载板与多个第二载板交叉间隔设置,并且第一电池片载片与第二电池片载片上下正对设置并形成用于容纳电池片的第一腔体;通过将第一载板支撑架与第二载板支撑架翻转180度,使得电池片翻面。本实用新型提供的镀膜设备可以实现电池片的双面镀膜。

基本信息
专利标题 :
一种双面镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021545599.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-30
授权号 :
CN212610894U
授权日 :
2021-02-26
发明人 :
谷士斌许明现黄强张莹
申请人 :
东方日升新能源股份有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市宁海县梅林街道塔山工业园区
代理机构 :
广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
孙柳
优先权 :
CN202021545599.4
主分类号 :
C23C16/458
IPC分类号 :
C23C16/458  C23C16/50  H01L31/18  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-02-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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