量子点膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种量子点膜，其从上至下依次是第一水氧阻隔层、基材层、第二水氧阻隔层、扩散层，且各层之间相互粘连贴合；第一水氧阻隔层下表面设置有反光凸起，基材层上表面设置有与反光凸起位置相对的第一凹槽，基材层下表面设置有第二凹槽，第一凹槽内和第二凹槽内均设置有量子点胶水，第一凹槽所在位置和第二凹槽所在位置相间设置；扩散层下表面还设置有反光凹槽。本实用新型中密封的第一凹槽和第二凹槽能有效避免量子点膜被氧化部分从边缘向内部蔓延，延长量子点膜使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
量子点膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922395003.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-26
授权号 ：
CN211858681U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
尹文龙金玄李化玺尹强强
申请人 ：
四川欣富瑞科技发展有限公司
申请人地址 ：
四川省绵阳市高新区河边镇海峰村八组华正电子工业园
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
靳雪华
优先权 ：
CN201922395003.0
主分类号 ：
H01L33/50
IPC分类号 ：
H01L33/50
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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