热处理窑炉的气氛测量系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种热处理窑炉的气氛测量系统，包括气氛测量仪和具有炉膛的炉体，炉膛具有供气氛导出的多个测量气出口，每个测量气出口连接有一根导气支管路，所有导气支管路通过一导气总管路与气氛测量仪相连，各导气支管路设有通断控制阀，导气总管路设有抽气装置。该气氛测量系统具有结构简单、使用灵活性高、测量准确性好、可降低成本、提高测量效率等优点。

基本信息

专利标题：

热处理窑炉的气氛测量系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922452223.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-30

授权号：

CN211626133U

授权日：

2020-10-02

发明人：

欧阳建高平立欧旭明易焕能廖栩枫

申请人：

湖南金炉科技股份有限公司

申请人地址：

湖南省长沙市高新开发区麓天路18号湖南长远锂科有限公司厂房203-205房

代理机构：

长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨斌

优先权：

CN201922452223.2

主分类号：

F27D21/00

IPC分类号：

F27D21/00 F27D19/00