一种IVC过滤器效率法原位检漏装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种IVC过滤器效率法原位检漏装置,包括外壳,外壳内设有进风机和过滤器,过滤器的上方设有进风机,过滤器的上端通过导风罩连接进风机,过滤器的上方设有上游采样模块,上游采样模块固定在导风罩上,上游采样模块连接尘埃粒子计数器;过滤器的下方设有下游采样模块,下游采样模块包括凹型采样管、下游采样口;凹型采样管呈凹字形的结构,凹字形的结构上开设有多个采样孔;凹型采样管上设有皮管接头,皮管接头通过下游采样口连接尘埃粒子计数器。本实用新型采用设有内圈和外圈的凹型采样管,采集到的混匀程度达到规范的过滤器下游空气样本可以将检测时间减少到原来的四分之一,检测人员为一人独立检测,提高检测效率和准确性。

基本信息
专利标题 :
一种IVC过滤器效率法原位检漏装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922465075.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-31
授权号 :
CN210922985U
授权日 :
2020-07-03
发明人 :
钱力钱鸣
申请人 :
上海鸣励实验室科技发展有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区祖冲之路887弄84号305室
代理机构 :
上海助之鑫知识产权代理有限公司
代理人 :
俞黎玉
优先权 :
CN201922465075.8
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2020-07-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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