一种高真空熔炼设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种高真空熔炼设备，包括设备底座，所述设备底座的底部靠近四周边角位置均连接有万向脚轮，且设备底座的下表面靠近边缘位置连接有支撑调节装置，所述设备底座的上表面靠近一侧位置固定安装有真空泵室，且设备底座的上表面靠近另一侧位置固定安装有高真空控制柜，所述真空泵室的顶部支撑有高真空腔室，所述高真空控制柜的上表面固定安装有熔炼控制柜，所述熔炼控制柜的前表面设有控制面板，所述高真空腔室的顶部开设有排气口，且高真空腔室的顶部连接有压力传感器。本实用新型所述的一种高真空熔炼设备，能够方便对高真空熔炼设备进行固定和移动，且能够对高真空腔室的活动门进行锁紧。
基本信息
专利标题 ：
一种高真空熔炼设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922477566.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211177916U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
杨留安
申请人 ：
深圳市泰安贵金属设备科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区宝龙街道兴农路28号佰联智慧城E栋104室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922477566.4
主分类号 ：
F27B14/04
IPC分类号 ：
F27B14/04 F27B14/08 F27B14/20
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉；浴炉
F27B14/04
适宜用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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