一种融熔渗硅用真空感应炉
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摘要
本实用新型公开了一种融熔渗硅用真空感应炉，包括炉体，设置在炉体内的发热腔体，所述发热腔体的顶部设置有排气孔，排气孔连接设置有排气管道，所述发热腔体的底部设置有承料板；所述发热腔体的底部设置有底部排气管，底部排气管连接设置有下抽气管，下抽气管的末端连接设置有真空泵；所述发热腔体内还设置有集气罩，所述集气罩内叠加设置有用于盛放产品的坩埚。本实用新型能够避免硅蒸汽侵蚀真空感应炉，从而提高真空感应炉的使用寿命，可广泛应用于碳化硅的生产加工领域。
基本信息
专利标题 ：
一种融熔渗硅用真空感应炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922498084.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211346314U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
杜东伟赵美玲纪东森
申请人 ：
德翼高科（杭州）科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市建德市寿昌镇建德经济开发区文化路5号楼301-1
代理机构 ：
杭州凌通知识产权代理有限公司
代理人 ：
叶绿林
优先权 ：
CN201922498084.7
主分类号 ：
F27B14/04
IPC分类号 ：
F27B14/04 F27B14/08
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉；浴炉
F27B14/04
适宜用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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