用于全色成像的超颖表面和系统以及成像的方法
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摘要
描述了超颖表面、包括用于成像的超颖表面的系统以及成像方法。这样的超颖表面可以由多个柱形成在衬底上。超颖表面配置成在波长范围内是光学活性的，并且在某些实施方式中配置成形成透镜。特别地，本文描述的超颖表面可以配置成使穿过超颖表面的光聚焦在扩展的焦深中。因此，例如结合计算重建，所公开的超颖表面通常适合于生成不具有或具有最小色像差的颜色。
基本信息
专利标题 ：
用于全色成像的超颖表面和系统以及成像的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111699415A
申请号 ：
CN201980010360.0
公开（公告）日 ：
2020-09-22
申请日 ：
2019-01-29
授权号 ：
CN111699415B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
尚恩·科尔伯恩艾伦·詹阿卡·马宗达
申请人 ：
华盛顿大学
申请人地址 ：
美国华盛顿
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
齐梦雅
优先权 ：
CN201980010360.0
主分类号 ：
G02B1/00
IPC分类号 ：
G02B1/00 G02B5/02 G02B5/18 G02B27/00 G02B26/06
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2020-12-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/00
申请日 : 20190129
申请日 : 20190129
2020-09-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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