生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和基准图案...
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摘要
本方法是一种生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系的校正线的方法，包括如下工序：制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图，获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像，计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量，将根据所述多个空间宽度与所述边缘的偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上，根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。
基本信息
专利标题 ：
生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和基准图案的空间宽度的关系的校正线的方法和装置以及计算机可读记录介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111919087A
申请号 ：
CN201980022609.X
公开（公告）日 ：
2020-11-10
申请日 ：
2019-03-12
授权号 ：
CN111919087B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
金子功次
申请人 ：
塔斯米特株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县横浜市港北区新横浜二丁目6番23号
代理机构 ：
上海华诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘煜
优先权 ：
CN201980022609.X
主分类号 ：
G01B15/04
IPC分类号 ：
G01B15/04 G01N23/2251 G06T7/00 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B15/00
以采用波或粒子辐射为特征的计量设备
G01B15/04
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-11-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 15/04
申请日 : 20190312
申请日 : 20190312
2020-11-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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