分布式面阵薄片成像系统
授权
摘要
一种分布式面阵薄片成像系统，包括分布式面阵透镜阵列、微纳光子集成器件、线性探测器阵列和图像重构算法，其中，分布式面阵透镜阵列为辐射状线性排布方式，在每条线性阵列后端透镜焦平面空间耦合微纳光子集成器件，其中所述微纳光子集成器件将各透镜耦合光分为两束，将奇数间距透镜对耦合构成干涉基线，同时将偶数间距透镜对耦合构成干涉基线。本发明的分布式面阵薄片成像系统空间光路优化设计的方案，优化了透镜对的组合方式，提高了空间频率覆盖率，减少了信息丢失，改善了重构图像质量。
基本信息
专利标题 ：
分布式面阵薄片成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111238638A
申请号 ：
CN202010068005.3
公开（公告）日 ：
2020-06-05
申请日 ：
2020-01-20
授权号 ：
CN111238638B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
姜成昊曹康朱精果叶征宇王宇刘汝卿李锋孟柘
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
吴梦圆
优先权 ：
CN202010068005.3
主分类号 ：
G01J1/42
IPC分类号 ：
G01J1/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
G01J1/42
采用电辐射检测器
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-06-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 1/42
申请日 : 20200120
申请日 : 20200120
2020-06-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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