线阵或面阵制版曝光头
专利申请的视为撤回
摘要
本发明提出的线阵或面阵制版曝光头主要由电光源、光学整形会聚器件和外壳等组成。用于图文印刷制版、印刷电路制版等那样的要求输出高分辨率、高清晰度的胶片底版或光敏掩膜的场合作为输出设备较先前技术或速度明显加快，或可有较简单的机架结构，或者两者兼而有之。当本发明提出的线阵或面阵制版曝光头的线阵长度或面阵的长和宽大于或等于当前工作幅面的长度或长和宽时，本发明提出的线阵或面阵制版曝光头将可以特有的单位移自由度或零位移自由度的输出模式工作。
基本信息
专利标题 ：
线阵或面阵制版曝光头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1062982A
申请号 ：
CN91109352.4
公开（公告）日 ：
1992-07-22
申请日 ：
1991-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
温建红
申请人 ：
温建红
申请人地址 ：
471003河南省洛阳市洛阳建材专科学校65信箱
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN91109352.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B27/00 G02F1/295 B41J2/44
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
1995-05-31 ：
专利申请的视为撤回
1992-07-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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