圆筒型靶的制造方法及圆筒型靶
授权
摘要
本发明涉及圆筒型靶的制造方法及圆筒型靶。本发明的课题在于提供制造在长度方向上几乎没有变形的圆筒型靶的方法。本发明涉及的圆筒型靶的制造方法包括下述工序：将靶材料加工成圆筒形状的工序；在已被加工成圆筒形状的靶材料上设置用于安装至溅射装置的接合件的工序；和为了对具有接合件的靶材料的直线度是否在预先规定的范围内进行确认，而对具有接合件的靶材料的外观的长度方向上的直线度进行测定的工序。
基本信息
专利标题 ：
圆筒型靶的制造方法及圆筒型靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111074218A
申请号 ：
CN202010075993.4
公开（公告）日 ：
2020-04-28
申请日 ：
2017-02-02
授权号 ：
CN111074218B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
白石瑞树菅原琢人西冈宏司藤田昌宏
申请人 ：
住友化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
牛蔚然
优先权 ：
CN202010075993.4
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/35 G01B5/28 G01B21/30 H01J37/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-05-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20170202
申请日 : 20170202
2020-04-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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