一种评估聚合物基自修复膜自修复能力的方法
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摘要

本发明涉及一种评估聚合物基自修复膜自修复能力的方法,是将聚合物基自修复膜进行制样—刻蚀—自修复—测量过程,当测量结果不合规时,即当裂纹形貌目视存在明显裂纹或者D大于阈值K时,则重新进行制样—刻蚀—自修复—测量的过程,且刻蚀的特定裂纹结构为上一次刻蚀中的自修复能力下一等级对应的结构;当测量结果合规时,即当裂纹形貌目视无明显裂纹且D小于等于阈值K时,则聚合物基自修复膜的自修复能力等级为该次刻蚀中的特定裂纹结构所对应的等级;特定裂纹结构由具有相同间距的裂纹构成,每个裂纹的尺寸用直径和深度或者宽度和深度表示;自修复能力等级分为优、良、中、差四个等级。

基本信息
专利标题 :
一种评估聚合物基自修复膜自修复能力的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111474171A
申请号 :
CN202010098556.4
公开(公告)日 :
2020-07-31
申请日 :
2020-02-18
授权号 :
CN111474171B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
陈洪旭李海东程凤梅陈超林祥松
申请人 :
嘉兴学院
申请人地址 :
浙江省嘉兴市秀洲区康和路1288号光伏科技创园2号楼
代理机构 :
上海统摄知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杜亚
优先权 :
CN202010098556.4
主分类号 :
G01N21/84
IPC分类号 :
G01N21/84  G01N23/04  G01N23/20  G01N23/2005  G01N1/28  G01N1/32  G01B11/30  G01B15/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-04-01 :
授权
2022-03-22 :
著录事项变更
IPC(主分类) : G01N 21/84
变更事项 : 申请人
变更前 : 嘉兴学院
变更后 : 嘉兴学院
变更事项 : 地址
变更前 : 314033 浙江省嘉兴市秀洲区康和路1288号光伏科技创园2号楼
变更后 : 314001 浙江省嘉兴市经济开发区昌盛南路36号嘉兴学院智慧产业创新园7号楼
2020-08-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/84
申请日 : 20200218
2020-07-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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