投射光学系统、投射型图像显示装置和摄像装置
授权
摘要
投射光学系统、投射型图像显示装置和摄像装置。提出投射光学系统，即使在由一个光学元件构成第2光学系统的情况下，也能够在第2光学系统中进行像差的校正。投射光学系统从缩小侧起依次由第1光学系统和第2光学系统构成，在缩小侧成像面与放大侧成像面之间形成中间像。第2光学系统为光学元件。光学元件从缩小侧起朝向放大侧依次具有第1透过面、反射面和第2透过面。光学元件在通过该光学元件的光线的光路上具有第1部件部分和折射率与第1部件部分不同的第2部件部分。第1部件部分与第2部件部分的接合面具有曲面形状。
基本信息
专利标题 ：
投射光学系统、投射型图像显示装置和摄像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111638589A
申请号 ：
CN202010122707.5
公开（公告）日 ：
2020-09-08
申请日 ：
2020-02-27
授权号 ：
CN111638589B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
柳泽博隆守国荣时
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李庆泽
优先权 ：
CN202010122707.5
主分类号 ：
G02B17/08
IPC分类号 ：
G02B17/08 G03B21/14 G03B17/54
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2020-10-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 17/08
申请日 : 20200227
申请日 : 20200227
2020-09-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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