投射光学系统和投射型图像显示装置
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摘要

投射光学系统和投射型图像显示装置。即使在缩短投射距离的情况下也能够抑制配置在中间像的放大侧的凹形状的反射面大型化。投射光学系统从缩小侧起依次由第1光学系统和第2光学系统构成,在缩小侧成像面与放大侧成像面之间形成中间像。第2光学系统是透镜。透镜从缩小侧朝向放大侧依次具有第1透过面、反射面和第2透过面。第1透过面和反射面位于在Z轴方向上延伸的假想轴(M)的下方,第2透过面位于假想轴(M)的上方。反射面具有凹形状,第2透过面具有向放大侧突出的凸形状。透镜内规定的假想线(P)在YZ平面中相对于与假想轴(M)垂直的假想垂直线(V)倾斜,中间像位于透镜中的第1透过面与反射面之间。

基本信息
专利标题 :
投射光学系统和投射型图像显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110780434A
申请号 :
CN201910675981.2
公开(公告)日 :
2020-02-11
申请日 :
2019-07-25
授权号 :
CN110780434B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
守国荣时
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
李庆泽
优先权 :
CN201910675981.2
主分类号 :
G02B17/08
IPC分类号 :
G02B17/08  G02B13/18  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2022-04-05 :
授权
2020-03-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 17/08
申请日 : 20190725
2020-02-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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