投射型显示装置
授权
摘要
提供投射型显示装置,其能够抑制入射有波长较短的光的液晶装置中的反应生成物的影响。投射型显示装置通过投射光学系统将从多个液晶装置射出的光合成并射出。在将多个液晶装置中的密封材料的内侧的液晶的容积设为V1、将显示区域的液晶的容积设为V2时,在多个液晶装置中的、与第1液晶装置(绿色用液晶装置100(G))相比波长较短的光入射到显示区域的第2液晶装置(蓝色用液晶装置100(B))中,液晶容积比V1/V2比第1液晶装置的大。因此,在蓝色用液晶装置(100(B))中,即使当在显示区域中容易产生基于光化学反应的反应生成物的情况下,在密封材料的内侧,在液晶流动时显示区域的反应生成物被稀释的程度也较大。
基本信息
专利标题 :
投射型显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112213902A
申请号 :
CN202010660681.X
公开(公告)日 :
2021-01-12
申请日 :
2020-07-10
授权号 :
CN112213902B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
西田雅一
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
邓毅
优先权 :
CN202010660681.X
主分类号 :
G03B21/00
IPC分类号 :
G03B21/00 G02F1/13 G02F1/1335 G02F1/1339
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备;利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备;以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机;有关附件
法律状态
2022-04-29 :
授权
2021-01-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03B 21/00
申请日 : 20200710
申请日 : 20200710
2021-01-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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